一、真空鍍膜簡(jiǎn)介

　　真空鍍膜技術(shù)是指在真空環(huán)境下，將某種金屬或金屬化合物以氣相的形式沉積到材料表面(通常是非金屬)，屬于物理氣相沉積工藝，因?yàn)殄儗映殇X、錫、銦等金屬的薄膜，故也稱(chēng)為真空金屬化。

　　二、真空鍍膜的功能

　　主要是賦予被鍍件表面具有高度的金屬光澤和鏡面效果，尤其在車(chē)燈罩方面有很重要的聚光效果，其次是賦予鍍膜層出色的阻隔性能，提供優(yōu)異的電磁屏蔽和導(dǎo)電效果。

　　三、真空鍍膜的工藝

　　真空鍍膜根據(jù)鍍膜氣相金屬產(chǎn)生的方式和沉積方式的不同，分為熱蒸發(fā)鍍膜法和磁控濺射鍍膜法兩種工藝。其中，磁控濺射法由于鍍膜層和基材的結(jié)合力強(qiáng)，鍍膜層致密、均勻等優(yōu)點(diǎn)，更具有技術(shù)優(yōu)勢(shì)。